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近場光學顯微鏡的特點和技術參數(shù)介紹

更新更新時間:2020-09-24 點擊次數(shù):1186
  近場光學顯微鏡代替?zhèn)鹘y(tǒng)光纖探針來增強樣品的納米尺度區(qū)域的散射,散射信號可以在遠場被檢測到,而這些散射信號攜帶了樣品在金屬探針針尖下納米級區(qū)域的復雜光學性質。
  具體而言,這些散射光的信息包括光的振幅和相位,通過適當?shù)哪P?,這些測量可以估算出針尖下樣品納米尺度區(qū)域材料的光學常數(shù),在某些情況下,光學相位與波長還提供了一個與同種材料常規(guī)吸收光譜近似的光譜信息。
  近場光學顯微鏡建立在基于具有納米光學表征工具原子力顯微鏡基礎之上,高度集成,全面自動化,使用靈活,為研究生產(chǎn)力和易用性設定了新的標準,適用于硬質材料,特別是具有高反射率、高介電常數(shù)或強光學共振的材料,可以完成對所有物質納米尺度的化學性質分析及探索。
  一、產(chǎn)品特點:
  1、10nm空間分辨率近場成像和光譜;
  2、快速成像和采譜技術,10倍于傳統(tǒng)的空間光譜成像;
  3、背景壓制技術和光學信號收集技術,確保在10nm空間分辨率下仍然保持高的信噪比;
  4、預先校準光路,操作簡便;
  5、模塊化設計,可拓展性強;
  近場光學是研究距離物體表面一個波長以內(nèi)的光學現(xiàn)象的新型交叉學科,基于非輻射場的探測與成像原理,近場光學顯微鏡突破常規(guī)光學顯微鏡所受到的衍射極限,在超高光學分辨率下進行納米尺度光學成像與納米尺度光譜研究。
  二、技術參數(shù):
  1 操作模式:透射模式,反射模式,收集模式,照明模式;
  2 原子力顯微鏡操作模式:敲擊模式,接觸模式選配,所有探針或樣品掃描的操作模式;
  3 微分干涉對比:反射和透射;
  4 折射率成像:反射和透射;
  5 在線遠場共聚焦和拉曼及熒光光譜成像:反射和透射,針對選擇性拉曼散射超薄膜的探針增強拉曼散射;
  6 熱傳導及擴展電阻成像:接觸模式,敲擊模式,音叉反饋模式無反饋激光引入干擾信號;熱探針可作為納米加熱器使用,納米熱分析、納米相轉變等應用。

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